想要进入研究院的车间。
那复杂程度不亚于西天取经。
防护服得穿上。
然后风吹，将身上的尘埃都吹掉。
在经过紫外线照射等等环节。
从准备到进入，差不多要花上一个多小时。
没办法，光刻机对于室内清洁度要求实在是太高了。
光刻机说白了就是通过一系列的光源能量、形态约束，将光束投射到画有电路图的掩膜。
再经过光学补偿，将电路图成比例缩小投射到硅晶片，最后通过化学方法显影，得到刻在硅晶片上的电路图。
如此，光刻机在工作中最重要的当然是光了。
光在哪里传播呢？自然是空气。
这也就是为什么光刻机的工作环境要求非常高的洁净度。
哪怕是一点灰尘，都能将生产出来的芯片直接报废。
现在91年，光刻机的精密度还没有那么高。
这台从阿斯麦过来的机器，还远远没有达到后世的7纳米，甚至5纳米。
所以，对车间的要求在当下看起来是非常高，但自己人还是能搞一搞。
等到后世就坏菜了。
光刻机的精密度提高，对环境的要求更加苛刻和变态。
在国际上通用标准来说，手术室的要求的环境是iso5级。
这也是常人能接触到最干净的环境了。
但是，芯片生产因为特别精细。
极其微小的杂质都会影响产品的质量。
所以，在后世，生产芯片的车间竟然要求iso1级或者iso2级的最高水平！
也就是每立方米的空气中，超过0.1um大小的杂质，不能超过100粒。
这是什么概念？
打个比方说：如果西湖里面装满纯净水，你往里面撒一把盐，它就不合格了！
很是恐怖的要求！
简直让人无法想象，这么高要求，你靠人工打扫肯定是不行的。
人类每分钟会掉900多块死皮。
450个以上的细菌。
滴一滴汗，就会报废一批芯片！
注意是一批！而不是一个！
所以，芯片厂的自动化要求特别高，人反而是累赘。
能用机器的地方就不用人。
厂房里面还需要不间断的吹风。
一边吹一边过滤，确保完全无尘。
而这种吹风过滤的机器，叫风机过滤机组。
这种机组，只有老美和岛国才能生产出来。
这也是武长风让霍家齐去往岛国购买的空气净化设备的缘由。
就连过滤用的滤纸，在后世都没有国产能够替代。
在芯片生产这个流程里面，类似这样的细节还有很多。
这不仅仅是环境的要求，还有更多的注意事项，简直就是让人头皮发麻。
进入车间后。
霍家齐陪在武长风身边，一边介绍，一边说道：“为了启动这玩意，咱们花了不少时间，但时间反而是不值钱的。”
“花钱最多的就是购买各种原材料。”
武长风点点头：“不要急，慢慢来，你要知道，现在能买到，这都是高光时刻了。”
霍家齐有点懵逼，啥意思？
以后还买不到了？
这让霍家齐无法理解。
但他也没多想，只要有老板武长风在，一切问题都能解决。
老板就是这么一个创造奇迹的人。
随后，霍家齐展现了自己专业，扎实的基本功。
指着光刻机部件一一介绍道：
“老板，我们这是半自动设备，对准可以通过电动轴根据ccd的进行定位调谐。”
“这是紫外光源，曝光系统最核心的部件之一。”
“这个是对准系统，采用的全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。”
“这里是工件台，顾名思义就是放工件的平台，光刻工艺最主要的工件就是掩模和基片。”
“工件台为光刻机的一个关键，由掩模样片整体运动台（xy）、掩模样片相对运动台（xy）、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。
“其中，样片调平机构包括球座和半球。调平过程中首先对球座和半球通上压力空气，再通过调焦手轮，使球座、半球、样片向上运动，使样片与掩模相靠而找平样片，然后对二位三通电磁阀将球座和半球切换为真空进行锁紧而保持调平状态。”
“样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成，调平上升过程初步调焦，调平完成锁紧球气浮后，样片和掩模之间会产生一定的间隙，因此必须进行微调焦。”
“另一方面，调平完成进行对准，必须分离一定的对准间隙，也需要进行微调焦。”
“抽拉掩模台主要用于快速上下片，由燕尾导轨、定位挡块和锁紧手轮组成。”
霍家齐整整介绍了一个多小时。
武长风听的直迷糊。
第452章：光刻机(1/2),点击下一页继续阅读