“等离子体湍流抑制率维持在设计值，堆芯核心温度稳定，无异常升温。”
负责功率监测的研究员也连忙汇报。
“主堆稳定输出功率…短暂下降1.2%，3秒后恢复平稳，整体影响低于1.5%！”
一声声汇报，响彻整个实验室。
所有听到这些结果的研究员，还有钱宏远、冯建辉等人，都呆住了。
成功了！？
不仅成功了，结果还异常出色。
解决了问题的同时，还远超了第一次测试的数据！
巨大的压力瞬间消散，实验室里响起一片压抑后的欢呼声。
“太好了，终于成功了！”
“李工牛逼。”
“还以为又要以失败告终了，没想到啊，最后李工竟然挽狂澜于既倒！”
“还得是李工啊！”
“......”
研究员们的激动，溢于言表。
第二次测试的结果，出奇之好。
石墨烯涂层的电磁屏蔽效果和优化后的粒子注入参数完美匹配，将干扰降到了最低限度，代价从5%锐减到可忽略的1.2%，而EUV光源功率反而提升到了35W！
李阳脸上充满了笑容，但也只是持续了片刻。
他对这个结果很满意，当然也在预料之中。
只是，单单做到这一步，还远远不够。
他要的，是独立自主的造出光刻机！
他立刻吩咐道。
“钱教授，立刻组织人手，全面分析第二次测试的所有数据，特别是粒子束流的精准控制参数、辐射强度分布以及磁场同步性......”